超快激光在多晶硅还原炉的应用技术优化研究
摘要
本文系统研究了超快激光在多晶硅还原炉工艺中的应用,探讨了超快激光特性、与多晶硅材 料的相互作用及其能量控制对材料去除效果的影响。基于实验和参数优化,超快激光在提升还原炉的 清洁效率和材料纯度方面展现出显著优势。通过激光辅助加热及表面处理技术的应用,进一步优化了 还原工艺,降低了能耗,提高了生产效率。
关键词
超快激光,多晶硅还原炉,材料去除,激光参数优化
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超快激光在玻璃内部诱导选择性晶化技术研究进展[J]. 张博;王卓;孙轲;邱建荣.硅酸盐学报,2022(04)
紫外纳秒激光制备高效的多晶硅减反绒[J]. 张丽;孙 耀宁;贾天代;王国建;冯爱新;陈欢.太阳能学报,2021(12)
多晶硅表面周期性微结构的激光制备与性能研究[J]. 李甜 甜;孙耀宁;张丽;王国建;贾天代;冯爱新.光子学报,2021(04)
基于数值模拟电子级多晶硅还原炉流动结构改进研究 [J]. 梁世民;张胜涛;何银凤;付昊;赵丽丽.人工晶体学报, 2019(03)
基于 PolySim 电子级多晶硅还原炉三维数值模拟[J]. 李有斌;张胜涛;何银凤; 梁世民;韩金豆;付昊;赵丽丽. 人工晶体学报,2019(01)
多晶硅还原炉底盘温度场均匀性分析[J]. 王晓静;崔 萌;张芳.现代化工,2014(02)
DOI: https://doi.org/10.12238/jpm.v5i12.7533
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